HWN-P納米激光直寫系統是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統，根據壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結構緊湊、操作方便、維護簡單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征，能廣泛適用于各種微納結構及器件制造、材料工藝探素和小規模生產。該系列產品還可根據用戶特殊需求，提供定制設計和制造。

新概念技術：華維納LDW-P系列通過激光與材料的非線性相互作用，成功突破了光學衍射極限的限制，實現了納米尺度的加工分辨力，最小的孔洞直徑可達50nm。

多受體材料：華維納LDW-P系列通過高精度的功率調制（＜1‰），可兼容包括金屬薄膜、無機相變材料、光刻膠等多種受體材料。

可靠易用性：華維納HWN-P納米激光直寫系統擁有強大的軟件功能，支持標量刻寫、矢量刻寫等多種刻寫模式，供用戶根據不同的刻寫場景而選擇。另外，LDW-P系列還支持樣品刻寫后的在線分析，使用戶一站式完成設計、刻寫、分析等步驟， 大大提高了工作效率。

HWN-P1500納米激光直寫系統

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