單晶硅多晶硅雷士超聲波清洗設備

雷士超聲波硅片行業清洗設備
1. 清洗對象  多晶硅
2. 去除物   堿跡、 酸跡 、灰塵
3. 使用溶劑  一般為水劑+弱堿性清洗液
該清洗設備對多晶硅表面、細縫和隱蔽處清洗效果更好，清潔度更高，并且清洗速度快，提高生產效率。

1雷士振板超聲波清洗機由不銹鋼SUS304制造，使用壽命長。 
2超聲波發生器與振板之間采用高頻電源連接。 
3根據各種不同清洗要求，可以做成底震式、側震式和頂震式三種超聲波振板形式。
4有些單位有現成的清洗槽，可以在這基礎上添加振板裝置，改裝成超聲波清洗機。
5寬頻掃描技術,消除駐波,使超聲波能量分布更均勻,消除清洗盲區。
6頻率自動根蹤功能，適應不同的負載、溫度、液位。
7靈活的拆裝形式，更自由更可靠